EVG?7200LA特征：專有SmartNIL?技術(shù)，提供了無人能比的印跡形大面積經(jīng)過驗(yàn)證的技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度和均勻性多次使用的聚合物工作印模技術(shù)可延長母版使用壽命并節(jié)省大量成本強(qiáng)大且精確可控的處理與所有市售的壓印材料兼容EVG?7200LA技術(shù)數(shù)據(jù)：...

SmartNIL是行業(yè)領(lǐng)仙的NIL技術(shù)，可對小于40nm*的極小特征進(jìn)行圖案化，并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合，可實(shí)現(xiàn)無人可比的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的Smar...

1、激光測厚儀是利用激光的反射原理，根據(jù)光切法測量和觀察機(jī)械制造中零件加工表面的微觀幾何形狀來測量產(chǎn)品的厚度，是一種非接觸式的動(dòng)態(tài)測量儀器。它可直接輸出數(shù)字信號(hào)與工業(yè)計(jì)算機(jī)相連接，并迅速處理數(shù)據(jù)并輸出偏差值到各種工業(yè)設(shè)備。2、X射線測厚儀利用X射線穿透被測材料...

FSM413紅外干涉測量設(shè)備關(guān)鍵詞：厚度測量，光學(xué)測厚，非接觸式厚度測量，硅片厚度，氮化硅厚度，激光測厚，近紅外光測厚，TSV,CD,Trench，砷化鎵厚度，磷化銦厚度，玻璃厚度測量，石英厚度，聚合物厚度,背磨厚度，上下兩個(gè)測試頭。Michaelson干涉法...

UV納米壓印光刻系統(tǒng)EVG?610/EVG?620NT/EVG?6200NT：具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)■高精度對準(zhǔn)臺(tái)■自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制■電動(dòng)和程序控制的曝光間隙■支持蕞新的UV-LED技術(shù)■蕞小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求EVG?720/EVG...

EVG?120--光刻膠自動(dòng)化處理系統(tǒng)EVG?120是用于當(dāng)潔凈室空間有限，需要生產(chǎn)一種緊湊的，節(jié)省成本光刻膠處理系統(tǒng)。新型EVG120通用和全自動(dòng)光刻膠處理工具能夠處理各種形狀和尺寸達(dá)200mm/8“的基板。新一代EVG120采用全新的超緊湊設(shè)計(jì)，并帶有新開...

EVG?105—晶圓烘烤模塊設(shè)計(jì)理念：單機(jī)EVG?105烘烤模塊是專為軟或后曝光烘烤過程而設(shè)計(jì)。特點(diǎn)：可以在EVG105烘烤模塊上執(zhí)行軟烘烤，曝光后烘烤和硬烘烤過程。受控的烘烤環(huán)境可確保均勻蒸發(fā)?？删幊痰慕咏N可提供對光刻膠硬化過程和溫度曲線的蕞佳控制。EVG...

EVG光刻機(jī)簡介：EVG在1985年發(fā)明了世界上弟一個(gè)底部對準(zhǔn)系統(tǒng)，可以在頂部和雙面光刻，對準(zhǔn)晶圓鍵合和納米壓印光刻技術(shù)方面開創(chuàng)并建立了行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。EVG通過不斷開發(fā)掩模對準(zhǔn)器來為這些領(lǐng)域做出貢獻(xiàn)，以增強(qiáng)蕞重要的光刻技術(shù)。EVG的掩模對準(zhǔn)目標(biāo)是容納高達(dá)300mm...

光刻膠處理系統(tǒng)：EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)為光刻膠涂層和顯影建立了質(zhì)量和靈活性方面的新標(biāo)準(zhǔn)。EVG100系列的設(shè)計(jì)旨在提供蕞廣范的工藝變革，其模塊化功能可提供旋涂和噴涂，顯影，烘烤和冷卻模塊，以滿足個(gè)性化生產(chǎn)需求。這些系統(tǒng)可處理各種材料，例如正性和負(fù)性光刻...

EVG?720自動(dòng)SmartNIL?UV納米壓印光刻系統(tǒng)自動(dòng)全視野的UV納米壓印溶液達(dá)150毫米，設(shè)有EVG's專有SmartNIL?技術(shù)EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術(shù)和材料專業(yè)知識(shí)，能夠大規(guī)模制造微米和納米級結(jié)構(gòu)。具有SmartNIL技...

其中包括家用電器、醫(yī)藥、電子、光學(xué)、生命科學(xué)、汽車和航空業(yè)。肖特在全球34個(gè)國家和地區(qū)設(shè)有生產(chǎn)基地和銷售辦事處。公司目前擁有員工超過15500名，2017/2018財(cái)年的銷售額為。總部位于德國美因茨的母公司SCHOTTAG由卡爾蔡司基金會(huì)（CarlZeissF...

EVG?120--光刻膠自動(dòng)化處理系統(tǒng)EVG ?120是用于當(dāng)潔凈室空間有限，需要生產(chǎn)一種緊湊的，節(jié)省成本光刻膠處理系統(tǒng)。 新型EVG120通用和全自動(dòng)光刻膠處理工具能夠處理各種形狀和尺寸達(dá)200mm/8“的基板。新一代EVG120采用全新的超...

EVG620NT技術(shù)數(shù)據(jù)：曝光源：汞光源/紫外線LED光源先進(jìn)的對準(zhǔn)功能：手動(dòng)對準(zhǔn)/原位對準(zhǔn)驗(yàn)證自動(dòng)對準(zhǔn)動(dòng)態(tài)對準(zhǔn)/自動(dòng)邊緣對準(zhǔn)對準(zhǔn)偏移校正算法EVG620NT產(chǎn)量:全自動(dòng)：弟一批生產(chǎn)量：每小時(shí)180片全自動(dòng)：吞吐量對準(zhǔn)：每小時(shí)140片晶圓晶圓直徑（基板尺寸）：...

它為晶圓級光學(xué)元件開發(fā)、原型設(shè)計(jì)和制造提供了一種獨(dú)特的方法，可以方便地接觸蕞新研發(fā)技術(shù)與材料。晶圓級納米壓印光刻和透鏡注塑成型技術(shù)確保在如3D感應(yīng)的應(yīng)用中使用小尺寸的高分辨率光學(xué)傳感器供應(yīng)鏈合作推動(dòng)晶圓級光學(xué)元件應(yīng)用要在下一代光學(xué)傳感器的大眾化市場中推廣晶圓級...

EVG?620NT特征：頂部和底部對準(zhǔn)能力高精度對準(zhǔn)臺(tái)自動(dòng)楔形補(bǔ)償序列電動(dòng)和程序控制的曝光間隙支持ZUI新的UV-LED技術(shù)ZUI小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求分步流程指導(dǎo)遠(yuǎn)程技術(shù)支持多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）敏捷...

SmartNIL是行業(yè)領(lǐng)仙的NIL技術(shù)，可對小于40nm*的極小特征進(jìn)行圖案化，并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合，可實(shí)現(xiàn)無人能比的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的Smar...

納米壓印微影技術(shù)有望優(yōu)先導(dǎo)入LCD面板領(lǐng)域原本計(jì)劃應(yīng)用在半導(dǎo)體生產(chǎn)制程的納米壓印微影技術(shù)(Nano-ImpLithography；NIL)，現(xiàn)將率先應(yīng)用在液晶顯示器(LCD)制程中。NIL為次世代圖樣形成技術(shù)。據(jù)ETNews報(bào)導(dǎo)，南韓顯示器面板企業(yè)LCD制程研...

G?105—晶圓烘烤模塊設(shè)計(jì)理念：單機(jī)EVG?105烘烤模塊是專為軟或后曝光烘烤過程而設(shè)計(jì)。特點(diǎn)：可以在EVG105烘烤模塊上執(zhí)行軟烘烤，曝光后烘烤和硬烘烤過程。受控的烘烤環(huán)境可確保均勻蒸發(fā)。可編程的接近銷可提供對光刻膠硬化過程和溫度曲線的ZUI佳控制。EVG...

世界lingxian的衍射波導(dǎo)設(shè)計(jì)商和制造商WaveOptics宣布與EVGroup（EVG）進(jìn)行合作，EVGroup是晶圓鍵合和納米壓印光刻設(shè)備的lingxian供應(yīng)商，以帶來高性能增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)（AR）波導(dǎo)以當(dāng)今業(yè)界的低成本進(jìn)入大眾市場。波導(dǎo)是可穿戴AR的關(guān)鍵光...

EVG的光刻機(jī)技術(shù)：EVG在光刻技術(shù)上的關(guān)鍵能力在于其掩模對準(zhǔn)器的高產(chǎn)能，接觸和接近曝光功能以及其光刻膠處理系統(tǒng)的內(nèi)部處理的相關(guān)知識(shí)。EVG的所有光刻設(shè)備平臺(tái)均支持300毫米的晶圓，可以完全集成到其HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中，并配有用于從上到下的側(cè)面對準(zhǔn)驗(yàn)...

不管您參與對顯示器的基礎(chǔ)研究還是制造，Thetametrisis都能夠提供您所需要的...測量液晶層-聚酰亞胺、硬涂層、液晶、間隙測量有機(jī)發(fā)光二極管層-發(fā)光、電注入、緩沖墊、封裝對于空白樣品，我們建議使用FR-Scanner系列儀器。對于圖案片，Thetame...

EVG曝光光學(xué)：專門開發(fā)的分辨率增強(qiáng)型光學(xué)元件（REO）可提供高出50％的強(qiáng)度，并顯著提高/分辨率，在接近模式下可達(dá)到小于3μm的分辨率。REO的特殊設(shè)計(jì)有助于控制干涉效應(yīng)以獲得分辨率。EVG蕞新的曝光光學(xué)增強(qiáng)功能是LED燈設(shè)置。低能耗和長壽命是UV-LED光...

F10-HC輕而易舉而且經(jīng)濟(jì)有效地分析單層和多層硬涂層F10-HC以FilmetricsF20平臺(tái)為基礎(chǔ)，根據(jù)光譜反射數(shù)據(jù)分析快速提供薄膜測量結(jié)果。F10-HC先進(jìn)的模擬算法是為測量聚碳酸酯和其它單層和多層硬涂層(例如，底涂/硬涂層)專門設(shè)計(jì)的。全世界共有數(shù)百...

測量眼科設(shè)備涂層厚度光譜反射率可用于測量眼鏡片減反射(AR)光譜和殘余顏色，以及硬涂層和疏水層的厚度。測量范例：F10-AR系統(tǒng)配備HC升級選擇通過反射率信息進(jìn)行硬涂層厚度測量。這款儀器儀器采用接觸探頭，從而降低背面反射影響，并可測凹凸表面。接觸探頭安置在鏡頭...

Filmetrics的技術(shù)Filmetrics提供了范圍廣范的測量生物醫(yī)療涂層的方案：支架：支架上很小的涂層區(qū)域通常需要顯微鏡類的儀器。我們的F40在幾十個(gè)實(shí)驗(yàn)室內(nèi)得到使用，測量鈍化和/或藥物輸送涂層。我們有獨(dú)特的測量系統(tǒng)對整個(gè)支架表面的自動(dòng)厚度測繪，只需在測...

FSM413MOT紅外干涉測量設(shè)備：適用于所有可讓紅外線通過的材料：硅、藍(lán)寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石英、聚合物…………應(yīng)用:襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響)平整度厚度變化(TTV)溝槽深度過孔尺寸、深度、側(cè)壁角度粗糙度薄膜厚度...

FSM413MOT紅外干涉測量設(shè)備：適用于所有可讓紅外線通過的材料：硅、藍(lán)寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石英、聚合物…………應(yīng)用:襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響)平整度厚度變化(TTV)溝槽深度過孔尺寸、深度、側(cè)壁角度粗糙度薄膜厚度...

FSM413紅外干涉測量設(shè)備關(guān)鍵詞：厚度測量，光學(xué)測厚，非接觸式厚度測量，硅片厚度，氮化硅厚度，激光測厚，近紅外光測厚，TSV,CD,Trench，砷化鎵厚度，磷化銦厚度，玻璃厚度測量，石英厚度，聚合物厚度,背磨厚度，上下兩個(gè)測試頭。Michaelson干涉法...

FSM413MOT紅外干涉測量設(shè)備：適用于所有可讓紅外線通過的材料：硅、藍(lán)寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石英、聚合物…………應(yīng)用:襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響)平整度厚度變化(TTV)溝槽深度過孔尺寸、深度、側(cè)壁角度粗糙度薄膜厚度...

濾光片整平光譜響應(yīng)。ND#0.5衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度+ND#0.5衰減整平濾波器.ND#1衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度+ND#1衰減整平濾波器.ND#2衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜...