AVI200-XLAVI200-XL的基本配置包括兩個(gè)單獨(dú)的承載模塊和一個(gè)控制單元，蕞大可承載400公斤重量。通過(guò)增加隔振模塊的數(shù)量，可以輕松承受更大的負(fù)載。為了使AVI200-M適應(yīng)用戶(hù)特定的應(yīng)用，可以按特殊順序提供不同長(zhǎng)度的單個(gè)元件。AVI200-XL的隔...

AVI400-MAVI400-M的基本配置包括兩個(gè)緊湊型隔振模塊和一個(gè)控制單元，最大負(fù)載為800公斤。通過(guò)增加緊湊型單元的數(shù)量，可以輕松實(shí)現(xiàn)對(duì)更高負(fù)載的支持。為了使AVI400-M適應(yīng)用戶(hù)特定的應(yīng)用，可以使用不同長(zhǎng)度的緊湊型裝置。AVI400-M的隔離始于1,...

AVI400-MAVI400-M的基本配置包括兩個(gè)緊湊型隔振模塊和一個(gè)控制單元，最大負(fù)載為800公斤。通過(guò)增加緊湊型單元的數(shù)量，可以輕松實(shí)現(xiàn)對(duì)更高負(fù)載的支持。為了使AVI400-M適應(yīng)用戶(hù)特定的應(yīng)用，可以使用不同長(zhǎng)度的緊湊型裝置。AVI400-M的隔離始于1,...

AVI200-MAVI200-M的隔離始于1,2Hz，超過(guò)10HZ以上迅速增加至35db減少低頻諧振可得到比普通的被動(dòng)空氣阻尼系統(tǒng)更好的性能AVI200-M系統(tǒng)固有的剛性賦予其出色的方向性和位置穩(wěn)定性AVI200-M的出色性能包括所有六個(gè)方向水平和垂直振動(dòng)模式...

使用說(shuō)明書(shū)解鎖系統(tǒng)后，將設(shè)備放置在平坦且堅(jiān)固的桌子上或地下。調(diào)整負(fù)載補(bǔ)償:將負(fù)載放在蕞上面，并使用以下三個(gè)調(diào)整負(fù)載補(bǔ)償側(cè)面的車(chē)輪到外殼和頂板之間的距離為2mm。沿+方向旋轉(zhuǎn)輪子以增加負(fù)載補(bǔ)償方向旋轉(zhuǎn)車(chē)輪以減少負(fù)載補(bǔ)償按下并檢查每個(gè)角是否有約0.5mm的自由移動(dòng)...

AVI200-XL的隔離始于1,2Hz，然后迅速增加至超過(guò)10Hz的35dB減少低頻諧振可得到比普通的被動(dòng)空氣阻尼系統(tǒng)更好的性能AVI200-XL系統(tǒng)固有的剛性賦予其出色的方向性和位置穩(wěn)定性AVI200-XL的出色性能包括所有六個(gè)方向水平和垂直振動(dòng)模式AVI2...

TS-140+40結(jié)合了久經(jīng)考驗(yàn)的技術(shù)桌越性與優(yōu)雅且用戶(hù)友好的設(shè)計(jì)TS-140+40的隔離始于0.7Hz，超過(guò)10Hz后迅速增加至40db缺少低頻諧振意味著比大多數(shù)常見(jiàn)的被動(dòng)空氣阻尼方法要好得多TS系統(tǒng)的固有剛度賦予其出色的方向和位置穩(wěn)定性TS140+40的出...

LFS-2傳感器測(cè)量?jī)蓚€(gè)軸的水平加速度，直至頻率為約0.2Hz傳感器直接放置在地板上，并用于前饋回路中與標(biāo)準(zhǔn)AVI/LP系統(tǒng)結(jié)合使用，可在非常低的情況下提高隔振效果頻率。LFS-2可以改裝為現(xiàn)有的AVI-LP系統(tǒng)。下表顯示了在AVI/LP上測(cè)得的水平隔離度（透...

TS-CTS-C系列是緊湊的動(dòng)態(tài)防振系統(tǒng)，可隔離所有六個(gè)平移和旋轉(zhuǎn)振動(dòng)模式。這些價(jià)格適中的動(dòng)態(tài)振動(dòng)隔離系統(tǒng)在體積上卻比蕞大，蕞昂貴的無(wú)源系統(tǒng)更好地實(shí)現(xiàn)了隔離。使用壓電力馬達(dá)的慣性反饋不僅可以隔離建筑物的振動(dòng)，還可以隔離放置在系統(tǒng)本身上的振動(dòng)源。例如，這意味著即...

EVG?301單晶圓清洗系統(tǒng)，屬于研發(fā)型單晶圓清洗系統(tǒng)。技術(shù)數(shù)據(jù) EVG301半自動(dòng)化單晶片清洗系統(tǒng)采用一個(gè)清洗站，該清洗站使用標(biāo)準(zhǔn)的去離子水沖洗以及超音速，毛刷和稀釋化學(xué)藥品作為附加清洗選項(xiàng)來(lái)清洗晶片。EVG301具有手動(dòng)加載和預(yù)對(duì)準(zhǔn)功能，是一種多功能的研發(fā)...

封裝技術(shù)對(duì)微機(jī)電系統(tǒng) (micro-electro-mechanical system,MEMS) 器件尺寸及功能的影響巨大，已成為 MEMS技術(shù)發(fā)展和實(shí)用化的關(guān)鍵技術(shù)［1］。實(shí)現(xiàn)封裝的技術(shù)手段很多，其中較關(guān)鍵的工藝步驟就是鍵合工藝。隨著 MEMS 技術(shù)的發(fā)展...

據(jù)外媒報(bào)道，美國(guó)威斯康星大學(xué)麥迪遜分校（UWMadison）的研究人員們，已經(jīng)同合作伙伴聯(lián)手實(shí)現(xiàn)了一種突破性的方法。不僅大達(dá)簡(jiǎn)化了低成本高性能、無(wú)線靈活的金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管（MOSFET）的制造工藝，還克服了許多使用標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)制造設(shè)備時(shí)所遇到的操作上的...

光刻機(jī)處理結(jié)果:EVG在光刻技術(shù)方面的合心競(jìng)爭(zhēng)力在于其掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)（EVG6xx和IQAligner系列）以及高度集成的涂層平臺(tái)（EVG1xx系列）的高吞吐量的接近和接觸曝光能力。EVG所有光刻設(shè)備平臺(tái)均為300mm，可完全集成到HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中...

納米壓印光刻設(shè)備-處理結(jié)果：新應(yīng)用程序的開(kāi)發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術(shù)和光子應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。HRISmartNIL?壓印上的單個(gè)像素的1.AFM圖像壓印全...

在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心，雙方合作研發(fā)用于制造光學(xué)傳感器的新材料，以及適用于大眾化市場(chǎng)的晶圓級(jí)光學(xué)元件。（奧地利）與WINDACH（德國(guó)），2019年11月27日――EV集團(tuán)(EVG)這一全球領(lǐng)仙的為微機(jī)電系統(tǒng)、納米技術(shù)與半導(dǎo)體市場(chǎng)...

EVG?7200LA特征：專(zhuān)有SmartNIL?技術(shù)，提供了無(wú)人能比的印跡形大面積經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度和均勻性多次使用的聚合物工作印模技術(shù)可延長(zhǎng)母版使用壽命并節(jié)省大量成本強(qiáng)大且精確可控的處理與所有市售的壓印材料兼容EVG?7200LA技術(shù)數(shù)據(jù)：...

曲面基底上的納米結(jié)構(gòu)在許多領(lǐng)域都有著重要應(yīng)用，例如仿生學(xué)、柔性電子學(xué)和光學(xué)器件等。傳統(tǒng)的納米壓印技術(shù)通常采用剛性模板，可以實(shí)現(xiàn)亞10nm的分辨率，但是模板不能彎折，無(wú)法在曲面基底上壓印制備納米結(jié)構(gòu)。而采用彈性模板的軟壓印技術(shù)可以在無(wú)外界提供壓力下與曲面保形接觸...

HERCULES光刻軌道系統(tǒng)特征：生產(chǎn)平臺(tái)以蕞小的占地面積結(jié)合了EVG精密對(duì)準(zhǔn)和光刻膠處理系統(tǒng)的所有優(yōu)勢(shì)；多功能平臺(tái)支持各種形狀，尺寸，高度變形的模具晶片甚至托盤(pán)的全自動(dòng)處理；高達(dá)52,000cP的涂層可制造高度高達(dá)300微米的超厚光刻膠特征；CoverSpi...

納米壓印光刻（NIL）-SmartNIL?用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝介紹：EVG是納米壓印光刻（NIL）的市場(chǎng)領(lǐng)仙設(shè)備供應(yīng)商。EVG開(kāi)拓這種非常規(guī)光刻技術(shù)多年，掌握了NIL并已在不斷增長(zhǎng)的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn)。EVG的專(zhuān)有SmartNIL...

HERCULES?NIL特征：全自動(dòng)UV-NIL壓印和低力剝離蕞多300毫米的基材完全模塊化的平臺(tái)，具有多達(dá)八個(gè)可交換過(guò)程模塊（壓印和預(yù)處理）200毫米/300毫米橋接工具能力全區(qū)域烙印覆蓋批量生產(chǎn)ZUI小40nm或更小的結(jié)構(gòu)支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D適...

EV集團(tuán)和肖特?cái)y手合作，證明300-MM光刻/納米壓印技術(shù)在大體積增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)/混合現(xiàn)實(shí)玻璃制造中已就緒聯(lián)合工作將在EVG的NILPhotonics?能力中心開(kāi)展，這是一個(gè)開(kāi)放式的光刻/納米壓?。∟IL）技術(shù)創(chuàng)新孵化器，同時(shí)也是全球?yàn)橐豢杉暗?00-mm光刻/納米...

EVG?120--光刻膠自動(dòng)化處理系統(tǒng)EVG ?120是用于當(dāng)潔凈室空間有限，需要生產(chǎn)一種緊湊的，節(jié)省成本光刻膠處理系統(tǒng)。 新型EVG120通用和全自動(dòng)光刻膠處理工具能夠處理各種形狀和尺寸達(dá)200mm/8“的基板。新一代EVG120采用全新的超...

NIL已被證明是在大面積上實(shí)現(xiàn)納米級(jí)圖案的蕞具成本效益的方法，因?yàn)樗皇芄鈱W(xué)光刻所需的復(fù)雜光學(xué)器件的限制，并且它可以為極小尺寸（小于100分）提供蕞佳圖案保真度nm）結(jié)構(gòu)。EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場(chǎng)壓印技術(shù)，可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù)，...

F60系列包含的內(nèi)容：集成平臺(tái)/光譜儀/光源裝置（不含平臺(tái)）4",6"and200mm參考晶圓TS-SiO2-4-7200厚度標(biāo)準(zhǔn)真空泵備用燈型號(hào)厚度范圍*波長(zhǎng)范圍F60-t:20nm-70μm380-1050nmF60-t-UV:5nm-40μm190-11...

集成電路故障分析故障分析(FA)技術(shù)用來(lái)尋找并確定集成電路內(nèi)的故障原因。故障分析中需要進(jìn)行薄膜厚度測(cè)量的兩種主要類(lèi)型是正面去層(用于傳統(tǒng)的面朝上的電路封裝)和背面薄化(用于較新的覆晶技術(shù)正面朝下的電路封裝)。正面去層正面去層的工藝需要了解電介質(zhì)薄化后剩余電介質(zhì)...

EVG?520HE熱壓印系統(tǒng)特色：經(jīng)通用生產(chǎn)驗(yàn)證的熱壓印系統(tǒng)，可滿足蕞高要求EVG520HE半自動(dòng)熱壓印系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于對(duì)熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。EVG的這種經(jīng)過(guò)生產(chǎn)驗(yàn)證的系統(tǒng)可以接受直徑蕞大為200mm的基板，并且與標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)兼容。熱壓印系統(tǒng)配置有通...

生物醫(yī)療設(shè)備涂層應(yīng)用生物醫(yī)療器械應(yīng)用中的涂層生物醫(yī)療器械的制造和準(zhǔn)備方面會(huì)用到許多類(lèi)型的涂層。有些涂層是為了保護(hù)設(shè)備免受腐蝕，而其他的則是為了預(yù)防組織損傷、敢染或者是排異反應(yīng)。藥物傳輸涂層也變得日益普通。其它生物醫(yī)學(xué)器械，如血管成型球囊，具有讀立的隔膜，必須具...

接觸探頭測(cè)量彎曲和難測(cè)的表面CP-1-1.3測(cè)量平面或球形樣品，結(jié)實(shí)耐用的不銹鋼單線圈。CP-1-AR-1.3可以抑制背面反射，對(duì)1.5mm厚的基板可抑制96%。鋼制單線圈外加PVC涂層，ZUI大可測(cè)厚度15um。CP-2-1.3用于探入更小的凹表面，直徑17...

（光刻膠）polyerlayers（高分子聚合物層）polymide（聚酰亞胺）polysilicon（多晶硅）amorphoussilicon（非晶硅）基底實(shí)例：對(duì)于厚度測(cè)量，大多數(shù)情況下所要求的只是一塊光滑、反射的基底。對(duì)于光學(xué)常數(shù)測(cè)量，需要一塊平整的鏡面...

1、激光測(cè)厚儀是利用激光的反射原理，根據(jù)光切法測(cè)量和觀察機(jī)械制造中零件加工表面的微觀幾何形狀來(lái)測(cè)量產(chǎn)品的厚度，是一種非接觸式的動(dòng)態(tài)測(cè)量?jī)x器。它可直接輸出數(shù)字信號(hào)與工業(yè)計(jì)算機(jī)相連接，并迅速處理數(shù)據(jù)并輸出偏差值到各種工業(yè)設(shè)備。2、X射線測(cè)厚儀利用X射線穿透被測(cè)材料...