手動探針臺規(guī)格描述(以實驗室常見的儀準ADVANCED八寸,六寸探針臺為例):探針臺載物臺平整度:5μm探針臺右側標配顯微鏡升降機構,可抬高顯微鏡,便于更換鏡頭和換待測物探針臺左側標配升降器,可快速升降臺面8mm,并具備鎖定功能探針臺右下方標配精調旋轉輪,可微...
手動探針臺的使用方式:1.將樣品載入真空卡盤,開啟真空閥門控制開關,使樣品安全且牢固地吸附在卡盤上。2.使用卡盤X軸/Y軸控制旋鈕移動卡盤平臺,在顯微鏡低倍物鏡聚焦下看清楚樣品。3.使用卡盤X軸/Y軸控制旋鈕移動卡盤平臺將樣品待測試點移動至顯微鏡下。4.顯微鏡...
如何對精密光學平臺的性能進行檢驗:精密光學平臺普遍應用于光學、電子、精密機械制造、冶金、航天、航空、航海、精密化工和無損檢測等領域,以及其他機械行業(yè)的精密試驗儀器、設備振動隔離的關鍵裝置中,其動態(tài)力學特性的好壞直接影響試驗結果的準確性和可靠性。精密光學平臺分為...
探針臺大家不陌生了,是我們半導體實驗室電性能測試的常用設備,也是各大實驗室的熟客。優(yōu)點太多了,成本低,用途廣,操作方便,對環(huán)境要求也不高,即使沒有超凈間,普通的壞境也可以配置,測試結果穩(wěn)定,客觀。深受工程師們的青睞。手動探針臺用途:探針臺主要應用于半導體行業(yè)、...
光學平臺中的重復定位精度同精密位移臺中概念不同,光學平臺的重復定位精度,是指在空載和在一定條件下加上負載并去除負載,光學平臺穩(wěn)定后的高度差。這個指標同負載的大小、加載的位置、加載時的速度、加速度、卸載時的速度、加速度等等指標有很大的關系,對于充氣式平臺,還有一...
探針臺主要應用于半導體行業(yè)、光電行業(yè)、集成電路以及封裝的測試。普遍應用于復雜、高速器件的精密電氣測量的研發(fā),旨在確保質量及可靠性,并縮減研發(fā)時間和器件制造工藝的成本。探針臺分類:探針臺從操作上來區(qū)分有:手動,半自動,全自動。從功能上來區(qū)分有:溫控探針臺,真空探...
全自動探針臺相比手動探針臺和自動探針臺兩種添加了晶圓材料處理搬運單元(MHU)和模式識別(自動對準)。負責晶圓的輸送與定位,使晶圓上的晶粒依次與探針接觸并逐個測試??梢?4小時連續(xù)工作,通常用于芯片量產或有一些特殊要求如處理薄晶圓、封裝基板等。全自動探針臺價格...
對于當今的多芯片(multi-die packages)封裝,例如堆疊芯片級封裝(SCSP)或系統(tǒng)級封裝(SiP)–開發(fā)用于識別已知測試芯片(KTD)和已知良好芯片(KGD)的非接觸式(RF)探針對提高整體系統(tǒng)產量至關重要。晶圓探針臺還可以在晶圓劃片線上執(zhí)行任...
從功能上來區(qū)分有:高溫探針臺,低溫探針臺,RF探針臺,LCD平板探針臺,霍爾效應探針臺,表面電阻率探針臺??v觀國內外的自動探針測試臺在功能及組成上大同小異,即主要由x-y向工作臺,可編程承片臺、探卡/探卡支架、打點器、探邊器、操作手柄等組成,并配有與測試儀(T...
光學平臺很普遍使用的振動響應傳遞函數(shù)為柔量。在恒定(靜態(tài))力的情況下,柔量可以定義為線性或角度錯位與所施加外力的比值。在動態(tài)變化力(振動)的情況下,柔量則可以定義為受激振幅(角度或線性錯位)與振動力振幅的比值。平臺的任意撓度都可以通過安裝在平臺表面的部件相對位...
晶圓是制作硅半導體積體電路所用的硅晶片,其原始材料是硅。高純度的多晶硅溶解后摻入硅晶體晶種,然后慢慢拉出,形成圓柱形的單晶硅。硅晶棒在經過研磨,拋光,切片后,形成硅晶圓片,也就是晶圓。半導體工業(yè)對于晶圓表面缺陷檢測的要求,一般是要求高效準確,能夠捕捉有效缺陷,...
簡單的光學平臺保養(yǎng)說明書?1.光學玻璃防雨罩使用時應每年檢查周圍空氣、溫度、濕度,及時補充;2.材料缺陷和老化是平面顯微鏡對運動目標的光學缺陷檢測很大的困難之一,受壓力改變形狀引起窗口模板反應靈敏變形和關斷的遲鈍及其他其他缺陷;3.硬質打磨主要是為了更加精細的...
自動化加工系統(tǒng)平臺和面包板的特殊之處是采用自動軌道機械啞光表面加工,比老舊的平臺產品更加平滑、平整。這些平臺經過改善的表面拋光處理后,表面平整度在1平方米(11平方英尺)內可達±0.1毫米(±0.004英寸),為安裝部件提供了接觸表面,不需要使用磨具對頂面進行...
光學平臺或面包板很重要的特性為其共振頻率。共振頻率和振幅是負相關的,因此共振頻率應盡可能地增大,從而將振動強度至小化。平臺和面包板會在一個特定的頻率范圍內發(fā)生振動。為了改善性能,每種尺寸的平臺和面包板的阻尼效果都需要進行優(yōu)化。平臺阻尼需要進行各種測試,對其厚度...
探針臺是半導體(包括集成電路、分立器件、光電器件、傳感器)行業(yè)重要的檢測裝備之一,其普遍應用于復雜、高速器件的精密電氣測量,旨在確保質量及可靠性,并縮減研發(fā)時間和器件制造工藝的成本。通過與測試儀器的配合,探針臺將參數(shù)特性不符合要求的芯片記錄下來,在進入后序工序...
光學平臺其他配件還包括貨架、安裝座、桌下擱板、振動隔離配件、可安裝支桿的光學平臺配件、可調式光學爬升架安裝座、地震抑制、光學面包板罩殼、遮光材料、磁性薄片等等。生產意義:當今科學界的科學實驗需要越來越精密的計算和測量,因此一個能與外界環(huán)境和干擾相對隔離的設備儀...
光學平臺又稱光學桌面,供水平、穩(wěn)定的臺面,一般平臺都需要進行隔振等措施,保證其不受外界因素干擾,使科學實驗正常進行。目前來說,有主動與被動兩大類。而被動又有橡膠與氣浮兩大類。固體阻尼隔震光學平臺和自動充氣平衡隔震光學平臺。光學平臺追求水平,首先加工的時候整個臺...
固有頻率,顧名思義,為系統(tǒng)本身發(fā)生的振動的頻率。數(shù)值上來看,固有頻率等于共振頻率??紤]物塊與彈性懸臂梁組成的系統(tǒng),固有頻率取決于兩個因素——物塊質量,以及充當彈簧的彈性懸臂梁的彈性系數(shù)。質量減小或彈性系數(shù)減小可增大固有頻率;質量增大或懸臂梁彈性系數(shù)增大可降低固...
晶圓級半自動面內磁場探針臺詳細參數(shù):垂直或面內磁場探針臺,通用性設計;容納12寸晶圓,且向下兼容8寸、6寸、碎片;兼容4組探針(RF或DC測試);提供Z軸探針平臺快速升降功能,實現(xiàn)高效測試;磁場強度≥330 mT;直流探針(4組)或微波探針(4組);XY電控行...
高性能密閉微暗室有效屏蔽:腔體采用導電的處理工藝,確保了各零件之間的導通狀態(tài)從而達到全屏蔽的效果,降低系統(tǒng)噪聲,有效屏蔽外界干擾,并提供低漏電流保護,為微弱電信號測試提供了合理的測試環(huán)境;同時也注意零件配合以及裝配的同時,保證內部的密封性。對于一些特殊的器件/...
光學平臺平面度,對于隔振性能,沒有任何影響,甚至若為了追求高平面度,往往會去除掉光學平臺的隔振性能,原因如下:我們知道,光學平臺臺面,若為達到高平面度,通常需要反復磨削,在加工過程中,多次磨削容易使材料產生形變,為了減少形變,通常要加厚臺面,但我們通過振動恢復...
探針臺需要特別注意的是在未加壓縮空氣時不可強行拉動動子,以免造成定子及動子的損傷。平面電機應使用在環(huán)境溫度15~25℃,相對濕度小于50%的環(huán)境中,其所需的壓縮空氣必須經過干燥過濾處理且與環(huán)境空氣溫度差值小于5℃,氣壓為0.4±0.04MPa。相對于平面電機工...
固有頻率,顧名思義,為系統(tǒng)本身發(fā)生的振動的頻率。數(shù)值上來看,固有頻率等于共振頻率??紤]物塊與彈性懸臂梁組成的系統(tǒng),固有頻率取決于兩個因素——物塊質量,以及充當彈簧的彈性懸臂梁的彈性系數(shù)。質量減小或彈性系數(shù)減小可增大固有頻率;質量增大或懸臂梁彈性系數(shù)增大可降低固...
以往如果需要測試電子元器件或系統(tǒng)的基本電性能(如電流、電壓、阻抗等)或工作狀態(tài),測試人員一般會采用表筆去點測。隨著電子技術的不斷發(fā)展,對于精密微小(納米級)的微電子器件,表筆點到被測位置就顯得無能為力了。于是一種高精度探針座應運而生,利用高精度微探針將被測原件...
精密光學平臺的桌腿中裝有氣動單元,它與平臺的材料及設計相結合可以減少環(huán)境中的物體(例如人員走動、建筑物內其它設備以及行駛的汽車等)造成的大幅度低頻振動。這些外部力會使平臺發(fā)生剛體運動,這種運動本質上是2維的并且對大多數(shù)光學實驗不會造成影響。在千赫茲頻段的高頻振...
光學平臺隔振系統(tǒng)的構成:光學平臺由上下面板、蜂窩內芯和U型清潔艙采用低溫恒溫粘接而成,溫度應變小。鋼質蜂窩內芯采用垂向支撐桁架蜂窩結構,U型清潔艙與蜂窩芯六邊形內壁相配合內嵌在蜂窩孔中,蜂窩孔六邊形板直接粘結到上面板,U型清潔艙用蜂窩夾層板頂著粘接在上面板,增...
光學平臺測量方法:使用脈沖錘對平臺或面包板的表面施加一個已測量的外力,并將一個傳感器貼合在平臺或面包板表面對合成振動進行測量。探測器發(fā)出的信號通過分析儀進行讀取,并用于產生頻率響應譜(即柔量曲線)。在光學平臺的研發(fā)過程中,對平臺表面上很多點的柔量曲線進行記錄;...
探針臺從操作上來區(qū)分有:手動,半自動,全自動。從功能上來區(qū)分有:高溫探針臺,低溫探針臺,RF探針臺,LCD平板探針臺,霍爾效應探針臺,表面電阻率探針臺??v觀國內外的自動探針測試臺在功能及組成上大同小異,即主要由x-y向工作臺,可編程承片臺、探卡/探卡支架、打點...
撓度是指結構構件的軸線或中面由于彎曲引起垂直于軸線或中面方向的線位移。對于細長物體或薄物體,撓度是在受力后彎曲變形程度的度量。細長物體(如梁或柱)的撓度是指在變形時其軸線上各點在該點處軸線法平面內的位移量。薄板或薄殼的撓度是指中面上各點在該點處中面法線上的位移...
光學平臺很主要的一個目標是消除平臺上任意兩個以上部件之間的相對位移。大多數(shù)光學實驗都對系統(tǒng)穩(wěn)定性有較高的要求。各種因素造成的振動會導致儀器測量結果的不穩(wěn)定性和不準確性,所以光學平臺顯得十分重要。光學平臺隔振原理:振動來源主要分為來自系統(tǒng)之外的振動和系統(tǒng)內部的振...