涂布技術(shù)在真空鍍鋁膜中的應(yīng)用 將涂布技術(shù)與真空鍍鋁技術(shù)結(jié)合起來(lái)，通過(guò)在基材薄膜或鍍鋁薄膜上涂布功能層，以達(dá)到提高鍍鋁層的附著牢度、耐水煮性能、阻隔性能、裝飾性能等，滿(mǎn)足不同應(yīng)用領(lǐng)域的要求。 一．經(jīng)過(guò)等離子預(yù)處理的真空鍍鋁薄膜雖然鍍鋁層牢度有了明顯提高，但對(duì)于一些對(duì)鍍鋁層附著牢度要求更高，或者需要用于水煮殺 菌條件時(shí)仍然不能滿(mǎn)足要求。為了滿(mǎn)足上述要求，通過(guò)在基材薄膜表面涂布一層丙烯酸類(lèi)的化學(xué)涂層，該涂層不對(duì)鍍鋁層有優(yōu)異的粘附性能，同時(shí)可以滿(mǎn)足后續(xù)的水煮殺 菌條件。涂布后的包裝可以滿(mǎn)足巴氏殺 菌的要求，其鍍鋁層不會(huì)因?yàn)樗蠖l(fā)生氧化。 二．為進(jìn)一步提高鍍鋁膜的阻隔性能，同時(shí)保護(hù)鍍鋁層在后續(xù)的...

濺射鍍膜不良膜層分析，改善方法： 1.白霧主要表現(xiàn)：膜層外觀一層白霧。 原因分析及改善：（白霧可擦拭）：外層膜松散粗糙；出爐溫差大；潮氣吸附；膜層結(jié)構(gòu)不均勻；反應(yīng)氣體不足/不均勻；外層膜應(yīng)力大等。 （白霧不可擦拭）：殘留臟污；材腐蝕污染；膜層之間不匹配；反應(yīng)氣體不足/不均勻；基材受潮污染；真空室臟有水汽；環(huán)境溫差大。 2.發(fā)蒙主要表現(xiàn)：膜層表面粗糙無(wú)光。 原因分析及改善：設(shè)備漏氣；反應(yīng)氣體故障；膜層過(guò)厚；偏壓故障； 3.色斑主要表現(xiàn)：局部膜色變異。 原因分析及改善：腐蝕，局部折射率改變；前道工程夾具加工方法痕跡（形狀規(guī)則、部位一致、界限分明）； 周轉(zhuǎn)運(yùn)輸庫(kù)存過(guò)程留下痕跡...

本實(shí)施例中，所述防護(hù)層400的材料。在其他實(shí)施例中，所述防護(hù)層的材料還可以為橡膠或棉花。本實(shí)施例中，所述防護(hù)層400與所述固定板200間通過(guò)粘結(jié)劑相粘接。所述防護(hù)層400與所述拋光片300間也通過(guò)粘結(jié)劑相粘接。在其他實(shí)施例中，所述拋光片朝向所述防護(hù)層的表面上具有勾刺結(jié)構(gòu)(圖中未示出)，所述防護(hù)層與所述拋光片間通過(guò)所述勾刺結(jié)構(gòu)相固定。所述防護(hù)層400包括防護(hù)層和第二防護(hù)層，所述防護(hù)層覆蓋所述頂板210底部表面；所述第二防護(hù)層覆蓋所述側(cè)板220的內(nèi)側(cè)面。所述防護(hù)層表面與第二防護(hù)層表面相垂直。ITO、SiO2、陶瓷脆性靶材及燒結(jié)靶材。鎵靶材價(jià)格靶材 磁控濺射鍍膜中出現(xiàn)膜層不良的表現(xiàn)有哪些，如何改善...

真空鍍膜機(jī)分類(lèi)真空鍍膜機(jī)在近二十年內(nèi)發(fā)展迅速，其涉足的行業(yè)包括：塑料、五金、建筑、模具、裝飾、陶瓷、汽車(chē)等行業(yè)，而真空鍍膜設(shè)備根據(jù)各大個(gè)行業(yè)的功能需求，發(fā)展為蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)、多弧離子真空鍍膜機(jī)、磁控濺射真空鍍膜機(jī)。其中蒸發(fā)機(jī)主要應(yīng)用于塑料、五金等行業(yè)。表面進(jìn)行蒸發(fā)鍍鋁、鉻、一氧化硅的設(shè)備，所鍍膜層特點(diǎn)：牢固且細(xì)密，是工業(yè)化生產(chǎn)的理想設(shè)備，其大的優(yōu)點(diǎn)是它的環(huán)保性，真空鍍膜設(shè)備屬于無(wú)三廢、無(wú)污染的清潔生產(chǎn)設(shè)備，無(wú)須環(huán)保部門(mén)審批。多弧離子真空鍍膜機(jī)主要應(yīng)用于表面涂裝PVD膜層，是目前世界上先進(jìn)涂裝PVD膜層設(shè)備，真空所自主研發(fā)生產(chǎn)的多弧離子真空鍍膜設(shè)備運(yùn)用PLC及觸摸屏實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化邏輯程序控制操作,設(shè)...

高純金屬的純度分析原則： 高純金屬材料的純度一般用減量法衡量。減量計(jì)算的雜質(zhì)元素主要是金屬雜質(zhì)，不包括C ,O ,N ,H等間隙元素，但是間隙元素的含量也是重要的衡量指標(biāo)，一般單獨(dú)提出。依應(yīng)用背景的不同，要求進(jìn)行分析的雜質(zhì)元素種類(lèi)少則十幾種, 多則70多種。簡(jiǎn)單的說(shuō)高純金屬是幾個(gè)N(九) 并不能真正的表達(dá)其純度, 只有提供雜質(zhì)元素和間隙元素的種類(lèi)及其含量才能明確表達(dá)高純金屬的純度水平。 高純金屬的純度檢測(cè)應(yīng)以實(shí)際應(yīng)用需要作為主要標(biāo)準(zhǔn)，例如目前工業(yè)電解鈷的純度一般接99.99 % ,而且檢測(cè)的雜質(zhì)元素種類(lèi)較少。我國(guó)電解鈷的有色金屬行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)(YS/ T25522000)要求分析C ,S ,Mn...

真空鍍膜設(shè)備維修保養(yǎng)技巧 1、真空鍍膜設(shè)備每完成200個(gè)鍍膜程序以上，應(yīng)清潔工作室一次。 方法：用燒堿(NaOH)飽和溶液反復(fù)擦洗真空室內(nèi)壁，( 注意人體皮膚不可以直接接觸燒堿溶液，以免灼傷)目的是使鍍上去的膜料鋁(AL)與NaOH發(fā)生反應(yīng)，反應(yīng)后膜層脫落，并釋放出氫氣。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽閥內(nèi)的污垢。 2、當(dāng)粗抽泵(滑閥泵，旋片泵)連續(xù)工作一個(gè)月(雨季減半)，需更換新油。 方法：擰開(kāi)放油螺栓，放掉舊油，再將泵啟動(dòng)數(shù)秒，使泵內(nèi)的舊油完全排放出來(lái)。擰回放油螺栓，加入新油至額定量(油視鏡觀察)。連續(xù)使用半年以上，換油時(shí)應(yīng)將油蓋打開(kāi)，用布擦干凈箱內(nèi)污垢。 3、擴(kuò)散泵連續(xù)使用6個(gè)...

靶材600呈長(zhǎng)方體狀，其頂部表面為靶材濺射面610，底部表面為靶材焊接面620，所述靶材焊接面620貼合于背板表面上，所述靶材600通過(guò)所述靶材焊接面620與背板焊接固定。所述靶材600具有四個(gè)側(cè)壁表面630。靶材600具有十二條側(cè)棱601，各條側(cè)棱601均經(jīng)過(guò)圓角處理。在圓角處理前，所述靶材600的側(cè)棱601位置較為銳利。如果使用側(cè)棱未經(jīng)圓角處理的靶材600進(jìn)行濺射鍍膜，在濺射鍍膜工藝過(guò)程中，所述靶材600的側(cè)棱601位置容易發(fā)生前列放電的現(xiàn)象，導(dǎo)致鍍膜的均勻性差，影響鍍膜質(zhì)量。圓角處理使得靶材側(cè)棱601鈍化，有助于防止前列放電現(xiàn)象的發(fā)生。有一部分靶材在安裝之前需要拋光，比如鋁靶材等活性金屬...

任何本領(lǐng)域技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，均可作各種更動(dòng)與修改，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)以權(quán)利要求所限定的范圍為準(zhǔn)。本發(fā)明涉及靶材領(lǐng)域，具體涉及一種長(zhǎng)壽命靶材組件。背景技術(shù)：目前，現(xiàn)有的半導(dǎo)體濺射用ilc1013系列靶材的濺射壽命已經(jīng)到了一個(gè)極限，為提高靶材的使用壽命，節(jié)省多次更換靶材的重復(fù)性?，F(xiàn)有的技術(shù)都是通過(guò)磁場(chǎng)強(qiáng)度，把靶材表面設(shè)計(jì)成曲面來(lái)延長(zhǎng)壽命，公開(kāi)了一種靶材，包括靶材本體及基體，所述基體的至少一面設(shè)有所述靶材本體，所述靶材本體是由高純度靶材合金粉末通過(guò)等離子弧噴涂機(jī)噴涂熔焊在所述基體上。所述基體與所述靶材本體的結(jié)合面為呈內(nèi)凹的圓弧面。所述基體為矩形體或圓形。所述靶材的制造...

所得靶材組件濺射強(qiáng)度好，使得濺射過(guò)程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。實(shí)施例4本實(shí)施例提供一種長(zhǎng)壽命靶材組件，所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為5.9mm；所述靶材表面的硬度為25hv；其中，所述靶材的比較大厚度為24mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu)；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括***平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角為3°；所述斜面位于所述***平面和第二平面之間；所述***平面為圓形；所述第二平面為環(huán)形；所述靶材的材質(zhì)包括鋁；所述背板的材質(zhì)包括銅。所得靶材組件濺射強(qiáng)度好，使得濺射過(guò)程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。實(shí)施例...

為確保足夠的導(dǎo)熱性，可以在陰極冷卻壁與靶材之間加墊一層石墨紙。請(qǐng)注意一定要仔細(xì)檢查和明確所使用濺射頭冷卻壁的平整度，同時(shí)確保O型密封圈始終在位置上。由于所使用冷卻水的潔凈程度和設(shè)備運(yùn)行過(guò)程中可能會(huì)產(chǎn)生的污垢會(huì)沉積在陰極冷卻水槽內(nèi)，所以在安裝靶材時(shí)需要對(duì)陰極冷卻水槽進(jìn)行檢查和清理，確保冷卻水循環(huán)的順暢和進(jìn)出水口不會(huì)被堵塞。有些陰極設(shè)計(jì)是與陽(yáng)極的空隙較小，所以在安裝靶材時(shí)需要確保陰極與陽(yáng)極之間沒(méi)有接觸也不能存在導(dǎo)體，否則會(huì)產(chǎn)生短路。請(qǐng)參考設(shè)備商操作手冊(cè)中關(guān)于如何正確安裝靶材的相關(guān)信息。在收緊靶材夾具時(shí)，請(qǐng)先用手轉(zhuǎn)緊一顆鏍栓，再用手轉(zhuǎn)緊對(duì)角線(xiàn)上的另外一顆鏍栓，如此重復(fù)直到安裝上所有鏍栓后，再用工具收...

熔融鑄造法：熔融鑄造法是制作濺射靶材的基本方法之一。為保證鑄錠中雜質(zhì)元素含量盡可能低，通常其冶煉和澆注在真空或保護(hù)性氣氛下進(jìn)行。但鑄造過(guò)程中，材料組織內(nèi)部難免存在一定的孔隙率，這些孔隙會(huì)導(dǎo)致濺射過(guò)程中的微粒飛濺，從而影響濺射薄膜的質(zhì)量。為此，需要后續(xù)熱加工和熱處理工藝降低其孔隙率。八．購(gòu)買(mǎi)靶材的注意事項(xiàng)有哪些許多用戶(hù)在采購(gòu)靶材時(shí)沒(méi)有從專(zhuān)業(yè)的角度去考慮，下面為大家指出購(gòu)買(mǎi)靶材時(shí)需要注意的事項(xiàng)。對(duì)于所有的金屬來(lái)說(shuō)，純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一，靶材的純度對(duì)后期產(chǎn)品薄膜的性能影響很大。但是每一個(gè)產(chǎn)品對(duì)靶材的純度要求也有不相同的地方。對(duì)于同一種靶材，晶粒細(xì)小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快。南...

玫瑰金靶材有哪些？ PVD玫瑰金是靠濺射玫瑰金靶形成的，不同的玫瑰金靶配方顏色上有一些區(qū)別，大概分為以下幾種： 1、皇冠金（crown gold），黃金含量在22K(91.667％)，由英國(guó)亨利八世(1526年)將此比例的黃金用于金幣的鑄造 2、常見(jiàn)的也是典型的18K玫瑰金，黃金含量也在18K(75％)，但其它另含有約4％的銀和21％的銅，呈現(xiàn)美麗的淡粉玫瑰色 3、14K紅金，黃金含量在14K(58.33％)，其它添加金屬為銅(41.67％)。 有的PVD鍍膜廠玫瑰金靶也有添加一些其它的稀有元素，用來(lái)達(dá)到不同的色調(diào)或用來(lái)改變鍍層的性能，這也是市面上每一家PVD廠鍍出的色調(diào)都有一些差異的原因...

熔融鑄造法：熔融鑄造法是制作濺射靶材的基本方法之一。為保證鑄錠中雜質(zhì)元素含量盡可能低，通常其冶煉和澆注在真空或保護(hù)性氣氛下進(jìn)行。但鑄造過(guò)程中，材料組織內(nèi)部難免存在一定的孔隙率，這些孔隙會(huì)導(dǎo)致濺射過(guò)程中的微粒飛濺，從而影響濺射薄膜的質(zhì)量。為此，需要后續(xù)熱加工和熱處理工藝降低其孔隙率。八．購(gòu)買(mǎi)靶材的注意事項(xiàng)有哪些許多用戶(hù)在采購(gòu)靶材時(shí)沒(méi)有從專(zhuān)業(yè)的角度去考慮，下面為大家指出購(gòu)買(mǎi)靶材時(shí)需要注意的事項(xiàng)。對(duì)于所有的金屬來(lái)說(shuō)，純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一，靶材的純度對(duì)后期產(chǎn)品薄膜的性能影響很大。但是每一個(gè)產(chǎn)品對(duì)靶材的純度要求也有不相同的地方。由于活性反應(yīng)氣體粒子與靶面原子相碰撞產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)生成化合物原子。成都...

靶材拋光裝置還包括：防護(hù)層，所述防護(hù)層位于所述固定板與所述拋光片之間。防護(hù)層為彈性材料。靶材拋光裝置還包括：把手，所述把手設(shè)置于所述固定板的外表面上。把手的數(shù)量為兩個(gè)，其中一個(gè)所述把手設(shè)置于所述固定板的頂部，另一個(gè)所述把手設(shè)置于所述固定板的側(cè)壁上。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的技術(shù)方案具有以下優(yōu)點(diǎn)：提供的靶材拋光裝置的技術(shù)方案中，所述靶材拋光裝置包括：固定板，所述固定板包括頂板和位于所述頂板一側(cè)的側(cè)板；拋光片，位于所述固定板內(nèi)側(cè)面上，其中位于固定板彎折處的拋光片呈弧狀。位于固定板彎折處的拋光片表面適于對(duì)靶材經(jīng)圓角處理的側(cè)棱進(jìn)行拋光，位于側(cè)板上的所述拋光片表面適于對(duì)靶材側(cè)壁表面進(jìn)行拋光。所述靶材拋光裝...

常見(jiàn)的PVD裝飾膜主要有幾大色系： 1.IP玫瑰金（rose gold）是一種黃金和銅的合金，由于其具有非常時(shí)尚、靚麗的玫瑰紅色彩，因而普遍用于首飾設(shè)計(jì)和加工。又稱(chēng)粉色金（pink gold）、紅色金（red gold）。 2. IP金，用離子鍍膜的方式，讓靶材上的黃金沉積到要鍍的工件之上，一般由仿金層和表面金層兩層，表面金層的顏色與24K黃金一樣，厚度可以根據(jù)客戶(hù)的要求鍍不同的厚度。 3. 仿金系列（包括仿金色和仿玫瑰金），不含黃金，一般成份是由TiN TiCN ZrN ZrCN等陶瓷化合物組成，但很難達(dá)到真金的亮度。 4. 銀色系列，一般是鉻的化合物，顏色深淺可調(diào)整，可分冷色系列和暖色...

磁控靶濺射沉積率的影響因素 濺射沉積率是表征成膜速度的參數(shù)，其沉積率高低除了與工作氣體的種類(lèi)與壓力、靶材種類(lèi)與“濺射刻蝕區(qū)“的面積大小、靶面溫度與靶面磁場(chǎng)強(qiáng)度、靶源與基片的間距等影響因素外，還受靶面的功率密度，亦即靶電源輸出的“濺射電壓與電流”兩個(gè)重要因素的直接影響。 1、濺射電壓與沉積率 在影響濺射系數(shù)的諸因數(shù)中，當(dāng)靶材、濺射氣體等業(yè)已選定之后，比較起作用的就是磁控靶的放電電壓。一般來(lái)說(shuō)，在磁控濺射正常工藝范圍內(nèi)，放電電壓越高，磁控靶的濺射系數(shù)就越大。 2、濺射電流與沉積率 磁控靶的濺射電流與靶面離子流成正比，因此對(duì)沉積率的影響比電壓要大得多。增加濺射電流的辦法有兩個(gè)：一個(gè)是提高工作...

熔融鑄造法：熔融鑄造法是制作濺射靶材的基本方法之一。為保證鑄錠中雜質(zhì)元素含量盡可能低，通常其冶煉和澆注在真空或保護(hù)性氣氛下進(jìn)行。但鑄造過(guò)程中，材料組織內(nèi)部難免存在一定的孔隙率，這些孔隙會(huì)導(dǎo)致濺射過(guò)程中的微粒飛濺，從而影響濺射薄膜的質(zhì)量。為此，需要后續(xù)熱加工和熱處理工藝降低其孔隙率。八．購(gòu)買(mǎi)靶材的注意事項(xiàng)有哪些許多用戶(hù)在采購(gòu)靶材時(shí)沒(méi)有從專(zhuān)業(yè)的角度去考慮，下面為大家指出購(gòu)買(mǎi)靶材時(shí)需要注意的事項(xiàng)。對(duì)于所有的金屬來(lái)說(shuō)，純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一，靶材的純度對(duì)后期產(chǎn)品薄膜的性能影響很大。但是每一個(gè)產(chǎn)品對(duì)靶材的純度要求也有不相同的地方。有一部分靶材在安裝之前需要拋光，比如鋁靶材等活性金屬靶材，長(zhǎng)期暴露在...

利用原子力顯微鏡(AFM)和掃描電子顯微鏡(SEM)，對(duì)所制備的非晶硅薄膜進(jìn)行了定性和定量的表征，研究了濺射功率、襯底溫度、濺射時(shí)間、氬氣氣壓等因素對(duì)非晶硅薄膜表面形貌和厚度的影響。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明：非晶硅薄膜的表面粗糙度會(huì)隨濺射功率、濺射時(shí)間和濺射氣壓的增加而增大，而隨著襯底加熱溫度的增加而減小。 對(duì)制備的非晶硅薄膜在不同溫度和時(shí)間進(jìn)行了退火處理。再利用X- 射線(xiàn)衍射儀(XRD)和拉曼光譜儀，對(duì)不同退火溫度的樣品進(jìn)行晶化程度的表征。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明：不同條件制備的非晶硅薄膜在750℃退火1 h 后就已發(fā)生不同程度的晶化，并且直流磁控濺射制備的非晶硅薄膜比射頻磁控濺射制備的非晶硅薄膜更容易發(fā)生...

與實(shí)施例1的區(qū)別 在于所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為8mm；所得靶材組件濺射強(qiáng)度差，使得濺射過(guò)程中薄膜厚度不均勻，使用壽命減少。對(duì)比例3與實(shí)施例1的區(qū)別 在于所述靶材表面的硬度為10hv；所得靶材組件濺射強(qiáng)度差，使得濺射過(guò)程中薄膜厚度不均勻，使用壽命減少。對(duì)比例4與實(shí)施例1的區(qū)別 在于所述靶材表面的硬度為35hv；所得靶材組件濺射強(qiáng)度差，使得濺射過(guò)程中薄膜厚度不均勻，使用壽命減少。通過(guò)上述實(shí)施例和對(duì)比例的結(jié)果可知，本發(fā)明中，通過(guò)調(diào)整靶材表面的高度差及硬度，保證濺射強(qiáng)度，使得濺射過(guò)程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。申請(qǐng)人聲明，本發(fā)明通過(guò)上述實(shí)施例來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的詳細(xì)結(jié)構(gòu)特征，但本發(fā)明并...

陰-陽(yáng)極間距對(duì)靶濺射電壓的影響 真空氣體放電陰-陽(yáng)極間距能夠?qū)Π袨R射電壓造成一定的影響。在陰-陽(yáng)極間距偏大時(shí)，等效氣體放電的內(nèi)阻主要由等離子體等效內(nèi)阻決定，反之，在陰-陽(yáng)極間距偏小時(shí)，將會(huì)導(dǎo)致等離子體放電的內(nèi)阻呈現(xiàn)較小數(shù)值。由于在磁控靶點(diǎn)火起輝后進(jìn)入正常濺射時(shí)，如果陰-陽(yáng)極間距過(guò)小，由于靶電源輸出的濺射電壓具有一定的軟負(fù)載特性，就有可能出現(xiàn)在濺射電流已達(dá)工藝設(shè)定值時(shí)，靶濺射電壓始終很低又調(diào)不起來(lái)的狀況。“工藝型”靶電源可以改善和彌補(bǔ)這種狀況;而“經(jīng)濟(jì)型”靶電源對(duì)這種狀況無(wú)能為力。 1. 孿生靶(或雙磁控靶)陰-陽(yáng)極間距 對(duì)稱(chēng)雙極脈沖中頻靶電源和正弦波中頻靶電源帶孿生靶或雙磁控靶運(yùn)行...

作為本發(fā)明 的技術(shù)方案，所述靶材的比較大厚度為28-30mm，例如可以是28mm、28.1mm、28.2mm、28.3mm、28.4mm、28.5mm、28.6mm、28.7mm、28.8mm、28.9mm、29mm、29.1mm、29.2mm、29.3mm、29.4mm、29.5mm、29.6mm、29.7mm、29.8mm、29.9mm或30mm等，但不限于所列舉的數(shù)值，該范圍內(nèi)其他未列舉的數(shù)值同樣適用。作為本發(fā)明 的技術(shù)方案，所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板。作為本發(fā)明 的技術(shù)方案，所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu)。作為本發(fā)明 的技術(shù)方案，所述靶材包括用于濺射的濺射面。 地，所述濺射面包括***平...

在其他實(shí)施例中，所述固定板200內(nèi)側(cè)面彎折處呈弧狀，所述防護(hù)層400彎折處呈弧狀，位于所述固定板200彎折處的所述拋光片300的厚度均勻。此外，與前一實(shí)施例不同的是，所述拋光片部分310、拋光片第二部分320及拋光片第三部分330為一體成型。且所述拋光片部分310、拋光片第二部分320及拋光片第三部分330厚度相等。所述靶材600呈長(zhǎng)方體狀，其頂部表面為靶材濺射面610，底部表面為靶材焊接面620，所述靶材焊接面620貼合于背板表面上，所述靶材600通過(guò)所述靶材焊接面620與背板焊接固定。所述靶材600具有四個(gè)側(cè)壁表面630。在直流脈沖、中頻濺射過(guò)程中，離子撞擊的能量不足以破壞氧化皮。氟化鐿靶...

靶材拋光裝置還包括：防護(hù)層，所述防護(hù)層位于所述固定板與所述拋光片之間。防護(hù)層為彈性材料。靶材拋光裝置還包括：把手，所述把手設(shè)置于所述固定板的外表面上。把手的數(shù)量為兩個(gè)，其中一個(gè)所述把手設(shè)置于所述固定板的頂部，另一個(gè)所述把手設(shè)置于所述固定板的側(cè)壁上。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的技術(shù)方案具有以下優(yōu)點(diǎn)：提供的靶材拋光裝置的技術(shù)方案中，所述靶材拋光裝置包括：固定板，所述固定板包括頂板和位于所述頂板一側(cè)的側(cè)板；拋光片，位于所述固定板內(nèi)側(cè)面上，其中位于固定板彎折處的拋光片呈弧狀。位于固定板彎折處的拋光片表面適于對(duì)靶材經(jīng)圓角處理的側(cè)棱進(jìn)行拋光，位于側(cè)板上的所述拋光片表面適于對(duì)靶材側(cè)壁表面進(jìn)行拋光。所述靶材拋光裝...

磁控濺射鍍膜中出現(xiàn)膜層不良的表現(xiàn)有哪些，如何改善？ 1.脫膜主要表現(xiàn)：點(diǎn)狀/片狀膜層脫落 原因分析：雜質(zhì)附著，清洗殘留，真空室臟，臟污、油斑、灰點(diǎn)、口水點(diǎn)， 膜層局部附著不良等。 改善：加強(qiáng)清洗，加強(qiáng)烘烤，環(huán)境管控（清潔干燥），對(duì)于多層膜系，底層須與基材匹配（吸附力、硬度、熱膨脹）。 2.裂紋/暴膜主要表現(xiàn)： 網(wǎng)狀裂痕/龜裂/起泡脫膜，出爐外觀OK，放置一段時(shí)間后爆裂/起泡脫膜。 原因分析：鍍膜過(guò)程基材加熱不充分，成膜后及出爐后降溫過(guò)快，膜層應(yīng)力累積， 膜層與基材不匹配，多層膜之間參數(shù)不匹配。 改善： 基材充分預(yù)熱加熱；增加離子輔助，減小應(yīng)力；鍍膜緩慢降溫；底層須與基材匹配；多層膜之間參數(shù)...

磁控濺射鍍膜中出現(xiàn)膜層不良的表現(xiàn)有哪些，如何改善？ 1.脫膜主要表現(xiàn)：點(diǎn)狀/片狀膜層脫落 原因分析：雜質(zhì)附著，清洗殘留，真空室臟，臟污、油斑、灰點(diǎn)、口水點(diǎn)， 膜層局部附著不良等。 改善：加強(qiáng)清洗，加強(qiáng)烘烤，環(huán)境管控（清潔干燥），對(duì)于多層膜系，底層須與基材匹配（吸附力、硬度、熱膨脹）。 2.裂紋/暴膜主要表現(xiàn)： 網(wǎng)狀裂痕/龜裂/起泡脫膜，出爐外觀OK，放置一段時(shí)間后爆裂/起泡脫膜。 原因分析：鍍膜過(guò)程基材加熱不充分，成膜后及出爐后降溫過(guò)快，膜層應(yīng)力累積， 膜層與基材不匹配，多層膜之間參數(shù)不匹配。 改善： 基材充分預(yù)熱加熱；增加離子輔助，減小應(yīng)力；鍍膜緩慢降溫；底層須與基材匹配；多層膜之間參數(shù)...

基于非晶IGZO真空材料的阻變存儲(chǔ)器與憶阻器 從真空材料結(jié)構(gòu)及電子結(jié)構(gòu)角度入手，將In、Ga 元素引入到ZnO 材料中形成InGaZnO(IGZO)非晶合金材料，由于球?qū)ΨQ(chēng)的In 5s 軌道交疊較大，使得該材料具有形變對(duì)電學(xué)輸運(yùn)影響較小且遷移率較高的特點(diǎn)。 利用上述材料優(yōu)勢(shì)，采用室溫工藝，在塑料襯底上制作了高性能IGZO 柔性阻變存儲(chǔ)器。器件在連續(xù)十萬(wàn)次大角度彎折測(cè)試中，性能穩(wěn)定，存儲(chǔ)信息未丟失。變溫電學(xué)輸運(yùn)特性的研究表明：阻變行為與氧離子移動(dòng)密切相關(guān)，該存儲(chǔ)器的低阻導(dǎo)電通道由缺氧局域結(jié)構(gòu)組成，而缺氧態(tài)的局部氧化導(dǎo)致了存儲(chǔ)器由低阻態(tài)向高阻態(tài)的轉(zhuǎn)變。 在此基礎(chǔ)上，利用IGZO 非晶薄...

ITO薄膜制作過(guò)程中的影響因素 ITO薄膜在濺鍍過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生不同的特性，有時(shí)候表面光潔度比較低，出現(xiàn)“麻點(diǎn)”的現(xiàn)象，有時(shí)候會(huì)出現(xiàn)高蝕間隔帶，在蝕刻時(shí)還會(huì)出現(xiàn)直線(xiàn)放射型缺劃或電阻偏高帶，有時(shí)候會(huì)出現(xiàn)微晶溝縫。 常用的ITO靶材是通過(guò)燒結(jié)法生產(chǎn)的，就是由氧化銦（In2O3）和氧化錫（SnO2）粉末按照一定的比例進(jìn)行混合，通常質(zhì)量比是90%In2O3和10% SnO2，形成的黑灰色陶瓷半導(dǎo)體（氧化銦錫，ITO）。一般通過(guò)外觀就可以了解ITO靶材的質(zhì)量，深灰色是好的，相反越黑質(zhì)量越差，我國(guó)生產(chǎn)的ITO靶材質(zhì)量還可以的是黑灰色的。 研究顯示，在真空鍍膜機(jī)ITO薄膜濺...

玫瑰金靶材有哪些？ PVD玫瑰金是靠濺射玫瑰金靶形成的，不同的玫瑰金靶配方顏色上有一些區(qū)別，大概分為以下幾種： 1、皇冠金（crown gold），黃金含量在22K(91.667％)，由英國(guó)亨利八世(1526年)將此比例的黃金用于金幣的鑄造 2、常見(jiàn)的也是典型的18K玫瑰金，黃金含量也在18K(75％)，但其它另含有約4％的銀和21％的銅，呈現(xiàn)美麗的淡粉玫瑰色 3、14K紅金，黃金含量在14K(58.33％)，其它添加金屬為銅(41.67％)。 有的PVD鍍膜廠玫瑰金靶也有添加一些其它的稀有元素，用來(lái)達(dá)到不同的色調(diào)或用來(lái)改變鍍層的性能，這也是市面上每一家PVD廠鍍出的色調(diào)都有一些差異的原因...

晶粒尺寸及晶粒尺寸分布。通常靶材為多晶結(jié)構(gòu)，晶粒大小可由微米到毫米量級(jí)。對(duì)于同一種靶材，晶粒細(xì)小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快；而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。九．什么是靶材綁定主要從靶材綁定的定義，適用范圍和背靶的選擇三個(gè)方面來(lái)為大家介紹一下靶材綁定。一.靶材綁定的定義靶材綁定是指用焊料將靶材與背靶焊接起來(lái)。主要由三種方式：壓接、釬焊和導(dǎo)電膠。1.壓接：采用壓條，一般為了提高接觸的良好性，會(huì)增加石墨紙、Pb或In皮； 對(duì)于所有的金屬來(lái)說(shuō)，純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一，靶材的純度對(duì)后期產(chǎn)品薄膜的性能影響很大。四川氧化鈮靶材靶材所得靶材組件...

規(guī)格說(shuō)明：產(chǎn)品規(guī)格靶材可定制產(chǎn)品數(shù)量1000包裝說(shuō)明雙層真空包裝價(jià)格說(shuō)明1000◆產(chǎn)品說(shuō)明：高純靶,靶靶材鈀顆粒,鈀粉,鈀靶材鈀，是銀白色過(guò)渡金屬，較軟，有良好的延展性和可塑性，能鍛造、壓延和拉絲。塊狀金屬鈀能吸收大量氫氣，使體積***脹大，變脆乃至破裂成碎片。原子量：106.4密度（20℃）/g?cm-3：12.02熔點(diǎn)/℃：1552蒸發(fā)溫度/℃：1460沸點(diǎn)/℃：3140汽化溫度/℃：1317比電阻率（0℃）/uΩ?cm：10.6熔化熱/kJ?mol-1：16.7汽化熱/kJ?mol-1：361.7熱導(dǎo)率（0～100℃）/J?（cm?s?℃）-1：0.753電阻溫度系外觀：銀白色蒸發(fā)源（絲...