電致變色的工作原理： 電致變色材料在外加電場作用下發(fā)生電化學(xué)氧化還原反應(yīng)，得失電子，使材料的顏色發(fā)生變化電致變色器件的典型結(jié)構(gòu)器件結(jié)構(gòu)從上到下分別為：玻璃或透明基底材料、透明導(dǎo)電層（如：ITO）、電致變色層、電解質(zhì)層、離子存儲層、透明導(dǎo)電層（如：ITO）、玻璃或透明基底材料。器件工作時(shí)，在兩個(gè)透明導(dǎo)電層之間加上一定的電壓，電致變色層材料在電壓作用下發(fā)生氧化還原反應(yīng)，顏色發(fā)生變化；而電解質(zhì)層則由特殊的導(dǎo)電材料組成，如包含有高氯酸鋰、高氯酸納等的溶液或固體電解質(zhì)材料；離子存儲層在電致變色材料發(fā)生氧化還原反應(yīng)時(shí)起到儲存相應(yīng)的反離子，保持整個(gè)體系電荷平衡的作用，離子存儲層也可以為一種與前面一層電致...

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的技術(shù)方案具有以下優(yōu)點(diǎn)： 本發(fā)明提供的靶材拋光裝置的技術(shù)方案中，所述靶材拋光裝置包括：固定板，所述固定板包括頂板和位于所述頂板一側(cè)的側(cè)板；拋光片，位于所述固定板內(nèi)側(cè)面上，其中位于固定板彎折處的拋光片呈弧狀。位于固定板彎折處的拋光片表面適于對靶材經(jīng)圓角處理的側(cè)棱進(jìn)行拋光，位于側(cè)板上的所述拋光片表面適于對靶材側(cè)壁表面進(jìn)行拋光。所述靶材拋光裝置能夠?qū)Π胁膫?cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱同時(shí)進(jìn)行拋光，因此所述靶材拋光裝置有助于提高對靶材表面進(jìn)行拋光的作業(yè)效率。 可選方案中，所述防護(hù)層為彈性材料，所述防護(hù)層的質(zhì)地軟，能夠在所述固定板及靶材間提供緩沖，避免所述固定板觸撞靶材...

涂布技術(shù)在真空鍍鋁膜中的應(yīng)用 將涂布技術(shù)與真空鍍鋁技術(shù)結(jié)合起來，通過在基材薄膜或鍍鋁薄膜上涂布功能層，以達(dá)到提高鍍鋁層的附著牢度、耐水煮性能、阻隔性能、裝飾性能等，滿足不同應(yīng)用領(lǐng)域的要求。 一．經(jīng)過等離子預(yù)處理的真空鍍鋁薄膜雖然鍍鋁層牢度有了明顯提高，但對于一些對鍍鋁層附著牢度要求更高，或者需要用于水煮殺 菌條件時(shí)仍然不能滿足要求。為了滿足上述要求，通過在基材薄膜表面涂布一層丙烯酸類的化學(xué)涂層，該涂層不對鍍鋁層有優(yōu)異的粘附性能，同時(shí)可以滿足后續(xù)的水煮殺 菌條件。涂布后的包裝可以滿足巴氏殺 菌的要求，其鍍鋁層不會因?yàn)樗蠖l(fā)生氧化。 二．為進(jìn)一步提高鍍鋁膜的阻隔性能，同時(shí)保護(hù)鍍鋁層在后續(xù)的印刷...

頂板210與所述側(cè)板220為一體成型。在其他實(shí)施例中，所述頂板與所述側(cè)板還可以采用焊接、螺接或緊密配合方式固定連接。固定板200的材料為合金，具體的，所述固定板200的材料為不銹鋼。在其他實(shí)施例中，所述固定板的材料還可以為金屬。固定板200的厚度為10mm～15mm。若所述固定板200的厚度過大，使得所述固定板200的重量過大，不便于使用，影響操作的靈活性。若所述固定板200的厚度過小，導(dǎo)致所述固定板200的強(qiáng)度和韌性較差，影響所述靶材拋光裝置100的使用壽命。 拋光片300表面與靶材側(cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱相匹配。所述拋光片300表面具有磨砂顆粒，用于增加所述拋光片300與靶材表...

什么是3D玻璃？ 現(xiàn)在數(shù)碼產(chǎn)品使用的玻璃蓋板分為：2D玻璃，2.5D玻璃，還有3D玻璃。2D玻璃就是普通的純平面玻璃，沒有任何弧形設(shè)計(jì)；2.5D玻璃則為中間是平面的，但邊緣是弧形設(shè)計(jì)；而3D屏幕，無論是中間還是邊緣都采用弧形設(shè)計(jì)。 3D曲面玻璃的特色符合 3C 產(chǎn)品設(shè)計(jì)需求。3C 產(chǎn)品設(shè)計(jì)如智能手機(jī)、智能手表、平板計(jì)算機(jī)、可穿戴式智能產(chǎn)品、儀表板等陸續(xù)出現(xiàn) 3D 產(chǎn)品，已經(jīng)明確引導(dǎo)3D曲面玻璃發(fā)展方向。3D曲面玻璃輕薄、透明潔凈、抗指紋、防眩光、堅(jiān)硬、耐刮傷、耐候性佳等優(yōu)點(diǎn)，可型塑做出3D多形狀外觀具有產(chǎn)品特殊設(shè)計(jì)新穎性與質(zhì)感佳，又可增加弧形邊緣觸控功能帶來出色的觸控手感、無線充電機(jī)能，并能解...

常見的PVD裝飾膜主要有幾大色系： 1.IP玫瑰金（rose gold）是一種黃金和銅的合金，由于其具有非常時(shí)尚、靚麗的玫瑰紅色彩，因而普遍用于首飾設(shè)計(jì)和加工。又稱粉色金（pink gold）、紅色金（red gold）。 2. IP金，用離子鍍膜的方式，讓靶材上的黃金沉積到要鍍的工件之上，一般由仿金層和表面金層兩層，表面金層的顏色與24K黃金一樣，厚度可以根據(jù)客戶的要求鍍不同的厚度。 3. 仿金系列（包括仿金色和仿玫瑰金），不含黃金，一般成份是由TiN TiCN ZrN ZrCN等陶瓷化合物組成，但很難達(dá)到真金的亮度。 4. 銀色系列，一般是鉻的化合物，顏色深淺可調(diào)整，可分冷色系列和暖色系列...

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素： 本發(fā)明解決的問題是提供一種靶材拋光裝置，有助于提高作業(yè)效率。 為解決上述問題，本發(fā)明提供一種靶材拋光裝置，包括：固定板，所述固定板包括頂板和位于所述頂板一側(cè)的側(cè)板；拋光片，位于所述固定板內(nèi)側(cè)面上，其中位于固定板彎折處的拋光片呈弧狀。 可選的，所述拋光片表面與靶材側(cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱相匹配。 可選的，所述固定板內(nèi)側(cè)面彎折處形成夾角，位于所述固定板彎折處的所述拋光片的厚度不均。 可選的，所述固定板內(nèi)側(cè)面彎折處呈弧狀，位于所述固定板彎折處的所述拋光片的厚度均勻。 可選的，所述固定板的材料為金屬或合金。 可選的，所述拋光片為砂紙。 ...

一種靶材拋光裝置100，包括：固定板200，所述固定板200包括頂板210和位于所述頂板210一側(cè)的側(cè)板220；拋光片300，位于所述固定板200內(nèi)側(cè)面上，其中位于固定板200彎折處的拋光片300呈弧狀。 所述固定板200能夠起到支架的作用，以固定支撐所述拋光片300，便于操作人員使用所述靶材拋光裝置100。 頂板210呈矩形狀，所述側(cè)板220也呈矩形狀。 述固定板200內(nèi)側(cè)面彎折處形成夾角。具體的，所述側(cè)板220表面垂直于所述頂板210表面，即所述夾角為90°。在其他實(shí)施例中，所述夾角還可以大于90°且小于180°。 頂板210與所述側(cè)板220為一體成型。在其他實(shí)...

3D玻璃漸變色的應(yīng)用 3D玻璃漸變色主要應(yīng)用于3C產(chǎn)品，特別是手機(jī)領(lǐng)域。隨著雙玻璃加金屬邊框的盛行，3D后蓋裝飾工藝需要不斷革新?，F(xiàn)有的裝飾工藝主要是在裝飾防爆膜上進(jìn)行鍍膜絲印，再與3D玻璃貼合實(shí)現(xiàn)裝飾效果，外觀裝飾主要還是防爆膜紋理和鍍膜顏色搭配實(shí)現(xiàn)。漸變色效果可以通過多種途徑實(shí)現(xiàn)，包括：印刷、轉(zhuǎn)印、真空鍍膜、噴涂等。由于技術(shù)的瓶頸問題，現(xiàn)在量產(chǎn)的3D玻璃漸變主要有印刷和真空鍍膜兩種途徑。 漸變效果可大致分為同色漸變、鄰近色漸變、對比色漸變。漸變顏色的選擇對于印刷工藝的限制會小一些，選擇范圍更加寬。印刷工藝可以選擇對應(yīng)顏色及對應(yīng)顏色帶范圍進(jìn)行印刷，能夠?qū)崿F(xiàn)較為多元化的色彩沖撞效果，滿足設(shè)計(jì)者...

所述靶材600具有十二條側(cè)棱601，各條側(cè)棱601均經(jīng)過圓角處理。在圓角處理前，所述靶材600的側(cè)棱601位置較為銳利。如果使用側(cè)棱未經(jīng)圓角處理的靶材600進(jìn)行濺射鍍膜，在濺射鍍膜工藝過程中，所述靶材600的側(cè)棱601位置容易發(fā)生前列放電的現(xiàn)象，導(dǎo)致鍍膜的均勻性差，影響鍍膜質(zhì)量。圓角處理使得靶材側(cè)棱601鈍化，有助于防止前列放電現(xiàn)象的發(fā)生。 利用所述靶材拋光裝置100對所述靶材600進(jìn)行拋光時(shí)，將所述靶材拋光裝置100放置于所述靶材600上，使所述拋光片第二部分320表面與所述靶材600的側(cè)棱601表面相貼合，并使所述拋光片部分310表面與所述靶材濺射面610相貼合，且所述拋光片第三...

純度：純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一，因?yàn)榘胁牡募兌葘Ρ∧さ男阅苡绊懞艽?。不過在實(shí)際應(yīng)用中，對靶材的純度要求也不盡相同。例如，隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展，硅片尺寸由6”、 8”發(fā)展到12”, 而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求，而制備0.18um線條對靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。 雜質(zhì)含量：靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對不同雜質(zhì)含量的要求也不同。例如，半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材，對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求...

本實(shí)施例提供一種長壽命靶材組件，所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為5.78mm；所述靶材表面的硬度為26hv； 其中，所述靶材的比較大厚度為22mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu)；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角為4°；所述斜面位于所述平面和第二平面之間；所述平面為圓形；所述第二平面為環(huán)形；所述靶材的材質(zhì)包括鈦；所述背板的材質(zhì)包括鋁。 所得靶材組件濺射強(qiáng)度好，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。 對比例1 與實(shí)施例1的區(qū)別*在于所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距...

真空鍍膜設(shè)備維修保養(yǎng)技巧 1、真空鍍膜設(shè)備每完成200個(gè)鍍膜程序以上，應(yīng)清潔工作室一次。 方法：用燒堿(NaOH)飽和溶液反復(fù)擦洗真空室內(nèi)壁，( 注意人體皮膚不可以直接接觸燒堿溶液，以免灼傷)目的是使鍍上去的膜料鋁(AL)與NaOH發(fā)生反應(yīng)，反應(yīng)后膜層脫落，并釋放出氫氣。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽閥內(nèi)的污垢。 2、當(dāng)粗抽泵(滑閥泵，旋片泵)連續(xù)工作一個(gè)月(雨季減半)，需更換新油。 方法：擰開放油螺栓，放掉舊油，再將泵啟動數(shù)秒，使泵內(nèi)的舊油完全排放出來。擰回放油螺栓，加入新油至額定量(油視鏡觀察)。連續(xù)使用半年以上，換油時(shí)應(yīng)將油蓋打開，用布擦干凈箱內(nèi)污垢。 3、擴(kuò)散泵連續(xù)使用6個(gè)月以...

真空技術(shù)中的清潔處理 (一)概述 真空技術(shù)清潔處理一般指的是真空裝置的結(jié)構(gòu)材料、填裝材料和真空零(部)件的清潔處理。去除或減少污染物將有利于獲得良好真空，增加連接強(qiáng)度和氣密性，提高產(chǎn)品的壽命 和可靠性。 (二)污染物的幾種類型 ①油脂:加工、安裝和操作時(shí)沾染的潤滑劑、真空油脂等; ②水滴:操作時(shí)的手汗，吹玻璃時(shí)的唾液等; ③表面氧化物:易氧化材料長期基露或放置在潮濕大氣中所形成的表面氧化物; ④酸、堿、鹽類物質(zhì):清洗后的殘余物質(zhì)、手汗、自來水中的礦物質(zhì)等; ⑤空氣中的塵埃及其它有機(jī)物。 (三)污染的形成及其影響 真空裝置由許多不同的零件組成，它們都是經(jīng)過各種機(jī)械加工完成的，如車、銑、刨、...

氧化物鍍膜技術(shù)在真空鍍鋁膜中的應(yīng)用 近年來，迅速發(fā)展微波加熱技術(shù)給微波食品包裝及需經(jīng)微波殺 菌消毒的一類商品的包裝提出了新的要求，即包裝材料不要具有優(yōu)良的阻隔性能，而且還要耐高溫、微波透過性好等特性，傳統(tǒng)的包裝材料很難具備這些特點(diǎn)。因此，近年來日本、德國、美國等國家大力研究開發(fā)新型的高阻隔性包裝材料——SiOX和其它金屬氧化物鍍膜復(fù)合材料。這類材料除了阻隔性能可以與鋁塑復(fù)合材料相媲美外，同時(shí)還具有微波透過性好、耐高溫、透明、受環(huán)境溫度濕度影響小等優(yōu)點(diǎn)。 非金屬鍍膜可采用蒸鍍原料可采用SiOX、SiO2，也可以采用其它氧化物如Al2O3、 MgO、Y2O3、TiO2、Gd2O3等，其中常用的是S...

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素： 本發(fā)明解決的問題是提供一種靶材拋光裝置，有助于提高作業(yè)效率。 為解決上述問題，本發(fā)明提供一種靶材拋光裝置，包括：固定板，所述固定板包括頂板和位于所述頂板一側(cè)的側(cè)板；拋光片，位于所述固定板內(nèi)側(cè)面上，其中位于固定板彎折處的拋光片呈弧狀。 可選的，所述拋光片表面與靶材側(cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱相匹配。 可選的，所述固定板內(nèi)側(cè)面彎折處形成夾角，位于所述固定板彎折處的所述拋光片的厚度不均。 可選的，所述固定板內(nèi)側(cè)面彎折處呈弧狀，位于所述固定板彎折處的所述拋光片的厚度均勻。 可選的，所述固定板的材料為金屬或合金。 可選的，所述拋光片為砂紙。 ...

靶中毒現(xiàn)象： 正離子堆積：靶中毒時(shí)，靶面形成一層絕緣膜，正離子到達(dá)陰極靶面時(shí)由于絕緣層的阻擋，不能直接進(jìn)入陰極靶面，而是堆積在靶面上，容易產(chǎn)生冷場致弧光放電---打弧，使陰極濺射無法進(jìn)行下去。（2）陽極消失：靶中毒時(shí)，接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜，到達(dá)陽極的電子無法進(jìn)入陽極，形成陽極消失現(xiàn)象。 靶中毒的物理解釋： 一般情況下，金屬化合物的二次電子發(fā)射系數(shù)比金屬的高，靶中毒后，靶材表面都是金屬化合物，在受到離子轟擊之后，釋放的二次電子數(shù)量增加，提高了空間的導(dǎo)通能力，降低了等離子體阻抗，導(dǎo)致濺射電壓降低。從而降低了濺射速率。一般情況下磁控濺射的濺射電壓在400V-600V之...

所述把手510包括桿狀部511和第二桿狀部512，所述桿狀部511的一端連接所述頂板210，另一端連接所述第二桿狀部512。所述桿狀部511延伸方向與所述頂板210表面相垂直，所述第二桿狀部512延伸方向與所述頂板210表面相平行。所述把手510的結(jié)構(gòu)有利于操作人員牢固的抓握所述把手510，防止從所述把手510上滑脫。 在其他實(shí)施例中，所述固定板200內(nèi)側(cè)面彎折處呈弧狀，所述防護(hù)層400彎折處呈弧狀，位于所述固定板200彎折處的所述拋光片300的厚度均勻。 此外，與前一實(shí)施例不同的是，所述拋光片部分310、拋光片第二部分320及拋光片第三部分330為一體成型。且所述拋光片部分3...

PECVD 制備氫化非晶硅薄膜 本實(shí)驗(yàn)采用單晶硅片為襯底，按石英玻璃基片的清洗步驟清洗后烘干，然后置于PECVD系統(tǒng)中。樣品制備條件為襯底溫度250℃，工作氣壓120 Pa， 射頻功率100 W， 氣體流量SiH4/H2=15/5 sccm， 沉積時(shí)間30min， 制備得到a- Si：H 薄膜樣品。 (1) 非晶硅薄膜的表面粗糙度會隨著濺射功率的增大而增大，膜的均勻性將會變差; (2) 非晶硅薄膜的表面粗糙度隨著襯底加熱溫度的增大而減小，非晶硅薄膜均勻性變好; (3) 在0.5 Pa 至2.0 Pa范圍內(nèi)，隨著氬氣氣壓的增加非晶硅薄膜的表面粗糙度稍微變大; (4) 隨著濺射...

基于非晶IGZO真空材料的阻變存儲器與憶阻器 從真空材料結(jié)構(gòu)及電子結(jié)構(gòu)角度入手，將In、Ga 元素引入到ZnO 材料中形成InGaZnO(IGZO)非晶合金材料，由于球?qū)ΨQ的In 5s 軌道交疊較大，使得該材料具有形變對電學(xué)輸運(yùn)影響較小且遷移率較高的特點(diǎn)。 利用上述材料優(yōu)勢，采用室溫工藝，在塑料襯底上制作了高性能IGZO 柔性阻變存儲器。器件在連續(xù)十萬次大角度彎折測試中，性能穩(wěn)定，存儲信息未丟失。變溫電學(xué)輸運(yùn)特性的研究表明：阻變行為與氧離子移動密切相關(guān)，該存儲器的低阻導(dǎo)電通道由缺氧局域結(jié)構(gòu)組成，而缺氧態(tài)的局部氧化導(dǎo)致了存儲器由低阻態(tài)向高阻態(tài)的轉(zhuǎn)變。 在此基礎(chǔ)上，利用IGZO 非晶薄膜的...

在上述具體實(shí)施方式中所描述的各個(gè)具體技術(shù)特征，在不矛盾的情況下，可以通過任何合適的方式進(jìn)行組合，為了避免不必要的重復(fù)，本發(fā)明對各種可能的組合方式不再另行說明。 此外，本發(fā)明的各種不同的實(shí)施方式之間也可以進(jìn)行任意組合，只要其不違背本發(fā)明的思想，其同樣應(yīng)當(dāng)視為本發(fā)明所公開的內(nèi)容。 本發(fā)明涉及靶材領(lǐng)域，具體涉及一種長壽命靶材組件。 目前，現(xiàn)有的半導(dǎo)體濺射用ilc1013系列靶材的濺射壽命已經(jīng)到了一個(gè)極限，為提高靶材的使用壽命，節(jié)省多次更換靶材的重復(fù)性?，F(xiàn)有的技術(shù)都是通過磁場強(qiáng)度，把靶材表面設(shè)計(jì)成曲面來延長壽命，包括靶材本體及基體，所述基體的至少一面設(shè)有所述靶材本體，所述靶材本體...

靶中毒現(xiàn)象： 正離子堆積：靶中毒時(shí)，靶面形成一層絕緣膜，正離子到達(dá)陰極靶面時(shí)由于絕緣層的阻擋，不能直接進(jìn)入陰極靶面，而是堆積在靶面上，容易產(chǎn)生冷場致弧光放電---打弧，使陰極濺射無法進(jìn)行下去。（2）陽極消失：靶中毒時(shí)，接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜，到達(dá)陽極的電子無法進(jìn)入陽極，形成陽極消失現(xiàn)象。 靶中毒的物理解釋： 一般情況下，金屬化合物的二次電子發(fā)射系數(shù)比金屬的高，靶中毒后，靶材表面都是金屬化合物，在受到離子轟擊之后，釋放的二次電子數(shù)量增加，提高了空間的導(dǎo)通能力，降低了等離子體阻抗，導(dǎo)致濺射電壓降低。從而降低了濺射速率。一般情況下磁控濺射的濺射電壓在400V-600V之...

所述靶材的比較大厚度為24mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu)；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角為3°；所述斜面位于所述平面和第二平面之間；所述平面為圓形；所述第二平面為環(huán)形；所述靶材的材質(zhì)包括鋁；所述背板的材質(zhì)包括銅。 所得靶材組件濺射強(qiáng)度好，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。 實(shí)施例5 本實(shí)施例提供一種長壽命靶材組件，所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為5.82mm；所述靶材表面的硬度為21hv； 其中，所述靶材的比較大厚度為23mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材...

真空鍍膜離子鍍簡析 真空鍍膜離子鍍，電鍍混合廢水處理生化過程與傳統(tǒng)的物理和化學(xué)過程，生物絮凝劑之間的區(qū)別可連續(xù)操作過程中的育種，生物絮凝劑，以去除金屬離子與生物絮凝增加量的增加的劑量，傳統(tǒng)的離子交換過程中的離子交換樹脂的交換容量是有限的，飽和吸附后，不再能夠除去金屬離子。 一種離子鍍系統(tǒng)，以基片作為陰極，陽極殼，惰性氣體(氬氣)，以產(chǎn)生輝光放電。從蒸發(fā)源的分子通過等離子體的電離區(qū)域。的正離子被加速襯底臺到襯底表面上的負(fù)電壓?；瘜W(xué)沉淀法，化學(xué)主體的影響是一定的，沒有它們的增殖。離子鍍工藝結(jié)合蒸發(fā)(高沉積速率)和濺射層(良好的薄膜粘合)的工藝特點(diǎn)，并具有很好的衍射，對于形狀復(fù)雜的工件涂層。 ...

磁控濺射制備非晶硅薄膜 本實(shí)驗(yàn)采用石英玻璃為襯底，實(shí)驗(yàn)前先將玻璃襯底浸泡在溶液中，放到JHN- 4F(200 W)超聲波清洗機(jī)清洗30 min;然后用分析乙醇同樣在超聲波清洗機(jī)中清洗30 min; 放入裝有去離子水的燒杯中在超聲波清洗器中清洗約30 min 后晾干。然后以高純硅為靶材在JGP500型超高真空磁控濺射設(shè)備上，分別采用直流和射頻方式制備了兩塊樣品。在濺射前，預(yù)濺射5 min以除去靶材表面氧化物。1# 樣品采用直流磁控濺射方式， 濺射功率為100 W， 本底真空度6×10- 4 Pa ， 濺射時(shí)間20 min，濺射氣壓0.5 Pa，襯底溫度為室溫。2#樣品采用射頻磁控濺射方式，濺...

真空技術(shù)中的清潔處理 (一)概述 真空技術(shù)清潔處理一般指的是真空裝置的結(jié)構(gòu)材料、填裝材料和真空零(部)件的清潔處理。去除或減少污染物將有利于獲得良好真空，增加連接強(qiáng)度和氣密性，提高產(chǎn)品的壽命 和可靠性。 (二)污染物的幾種類型 ①油脂:加工、安裝和操作時(shí)沾染的潤滑劑、真空油脂等; ②水滴:操作時(shí)的手汗，吹玻璃時(shí)的唾液等; ③表面氧化物:易氧化材料長期基露或放置在潮濕大氣中所形成的表面氧化物; ④酸、堿、鹽類物質(zhì):清洗后的殘余物質(zhì)、手汗、自來水中的礦物質(zhì)等; ⑤空氣中的塵埃及其它有機(jī)物。 (三)污染的形成及其影響 真空裝置由許多不同的零件組成，它們都是經(jīng)過各種機(jī)械加工完成的，如車、銑、刨、...

真空鍍膜中靶材中毒會出現(xiàn)哪些想象，如何解決？ 靶面金屬化合物的形成。 由金屬靶面通過反應(yīng)濺射工藝形成化合物的過程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反應(yīng)氣體粒子與靶面原子相碰撞產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)生成化合物原子，通常是放熱反應(yīng)，反應(yīng)生成熱必須有傳導(dǎo)出去的途徑，否則，該化學(xué)反應(yīng)無法繼續(xù)進(jìn)行。在真空條件下氣體之間不可能進(jìn)行熱傳導(dǎo)，所以，化學(xué)反應(yīng)必須在一個(gè)固體表面進(jìn)行。反應(yīng)濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結(jié)構(gòu)表面進(jìn)行。 靶中毒的影響因素： 影響靶中毒的因素主要是反應(yīng)氣體和濺射氣體的比例，反應(yīng)氣體過量就會導(dǎo)致靶中毒。反應(yīng)濺射工藝進(jìn)行過程中靶表面濺射溝道區(qū)域內(nèi)出現(xiàn)被反應(yīng)生成物覆蓋...

有一部分靶材在安裝之前需要拋光，比如鋁靶材等活性金屬靶材，長期暴露在大氣中，表面容易形成一層氧化皮，在直流脈沖、中頻濺射過程中，離子撞擊的能量不足以破壞氧化皮，所以一般在濺射的時(shí)候進(jìn)行物理拋光。 一般靶材拋光后，濺射速率、電壓等工藝參數(shù)比較穩(wěn)定，容易控制。 所以結(jié)論就是，活性金屬靶材要求表面拋光，不活潑金屬靶材不一定非要求表面拋光。其他非金屬的靶材不需要拋光。 靶材安裝及注意事項(xiàng)有哪些？ 濺射靶材安裝過程中重要的注意事項(xiàng)是一定要確保在靶材和濺射頭冷卻壁之間建立很好的導(dǎo)熱連接。如果用冷卻壁的翹曲程度嚴(yán)重或背板翹曲嚴(yán)重會造成靶材安裝時(shí)發(fā)生開裂或彎曲，背靶到靶材的導(dǎo)熱性能...

真空鍍膜設(shè)備維修保養(yǎng)技巧 1、真空鍍膜設(shè)備每完成200個(gè)鍍膜程序以上，應(yīng)清潔工作室一次。 方法：用燒堿(NaOH)飽和溶液反復(fù)擦洗真空室內(nèi)壁，( 注意人體皮膚不可以直接接觸燒堿溶液，以免灼傷)目的是使鍍上去的膜料鋁(AL)與NaOH發(fā)生反應(yīng)，反應(yīng)后膜層脫落，并釋放出氫氣。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽閥內(nèi)的污垢。 2、當(dāng)粗抽泵(滑閥泵，旋片泵)連續(xù)工作一個(gè)月(雨季減半)，需更換新油。 方法：擰開放油螺栓，放掉舊油，再將泵啟動數(shù)秒，使泵內(nèi)的舊油完全排放出來。擰回放油螺栓，加入新油至額定量(油視鏡觀察)。連續(xù)使用半年以上，換油時(shí)應(yīng)將油蓋打開，用布擦干凈箱內(nèi)污垢。 3、擴(kuò)散泵連續(xù)使用6個(gè)月以...

作為本發(fā)明推薦的技術(shù)方案，所述靶材的材質(zhì)包括鋁、鉭、鈦或銅中的一種。 作為本發(fā)明推薦的技術(shù)方案，所述背板的材質(zhì)包括銅和/或鋁。 作為本發(fā)明推薦的技術(shù)方案，所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為5.75-6mm；所述靶材表面的硬度為20-30hv； 其中，所述靶材的比較大厚度為20-30mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu)；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括***平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角≤10°；所述斜面位于所述***平面和第二平面之間；所述***平面為圓形；所述第二平面為環(huán)形；所述靶材的材質(zhì)包括鋁、鉭、鈦或銅中...